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2024-11-13
2024-11-29
2025-06-26
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2025-01-16




非接觸式半絕緣方阻測量技術可以廣泛應用于各種領域,比如材料表面導電性測試、薄膜導電性測量、電路板測試等。它具有測量快速、精度高、不損傷被測物體等優(yōu)點。
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廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-06-26
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非接觸式半絕緣方阻測量技術可以廣泛應用于各種領域,比如材料表面導電性測試、薄膜導電性測量、電路板測試等。它具有測量快速、精度高、不損傷被測物體等優(yōu)點、
非接觸半絕緣方阻電阻率、霍爾遷移率非接觸式測量技術 我們專注于半導體量測分析設備的研發(fā)、生產和服務。l攻克關鍵核心技術,為晶圓、晶錠、硅材料、碳化硅等材料的生產和品質監(jiān)控。它可以通過電腦進行控制,編輯測試需要測試的硅片大小,測試點位數(shù)量,運用渦電流非接觸式的量測原理進行測量,可以通過軟件輸出2D/3D Mapping圖,更高效的完成測量任務。 特點 多點測試和圖譜顯示功能; 寬范圍和高精度測試能力; 標配2inch到8inch的測試能力; 軟件提供數(shù)據(jù)表功能,可以提供SPC統(tǒng)計,有,最小,平均值和標準方差值; 精密簡約的設計,比前代設備體積大大縮小,測試能力卻成倍提升 軟件內置校正功能 規(guī)格 標準電阻率測試范圍: 0.0~ 3200 ohm/sq 高阻測試范圍: 0.0~10k ohm/sq 超高阻測試范圍: 0.0~ 100k ohm/sq 探頭直徑:14mm 測試點數(shù): 標準配置217點, 可選999點。
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